อินเทลประกาศความสำเร็จในการเดินหน้าเลเซอร์เพื่อเตรียมผลิตชิปด้วยกระบวนการแบบ EUV หลังจากติดตั้งเครื่องจักรจาก ASML สำเร็จ ถ้าทุกอย่างยังเดินหน้าตามกำหนดก็จะเดินสายการผลิต Intel 4 ได้ในปี 2023 ที่โรงงาน Fab 34 ในไอร์แลนด์

ลำแสงเลเซอร์พลังงาน 25kW ยิงแสงจากห้องผลิตแสงใต้โรงงานผลิตชิปที่เป็นห้อง cleanroom ที่ความถี่ 50,000 รอบต่อวินาที จากนั้นแสงเลเซอร์จะส่งเข้าห้อง cleanroom แล้วยิงไปยังหยดละออง (droplet) ขนาด ของดีบุกสองครั้ง ครั้งแรกทำให้ละอองกลายเป็นแผ่นกลม ครั้งที่สองยิงด้วยพลังงานสูงให้ปล่อยพลาสมา EUV ออกมาแล้วสะท้อนลงแผ่นเวเฟอร์ในที่สุด

อินเทลกำลังเร่งพัฒนาเทคโนโลยีการผลิต ตามแผนจะมีการเปิดสายการผลิตใหม่ 5 เทคโนโลยีภายใน 4 ปี มีกำหนดกลับมาเป็นผู้นำด้านเทคโนโลยีการผลิตภายในปี 2025

ที่มา – Intel